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半导体制造过滤

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  • 半导体制造过滤

  • 半导体制造工艺复杂严苛，涵盖光刻、精密切割和研磨等各种复杂工艺，涉及光刻胶、研磨液、显影液、蚀刻液等的过滤。囊式过滤器体积小、过滤介质损失小，一体式、安装方便节约使用成本的特点。广泛应用于半导体制造过滤。
  • 主要特点

  • 囊式过滤器体积小

    过滤介质损失小

    一体式、安装方便

     节约使用成本

  • 0571-87022016
    • 详细信息 在线留言
    料结构
    		 操作条件
    		 绝对过滤精度(um)
    滤材: PP、PES、PTFE、PVDF、N6、N66、MCE
    壳体: 聚丙烯
    密封技术: 热熔焊接
    		 工作温度：≤60℃
    可耐最大压差：4 bar (21℃)
    灭菌方法：121℃/30min蒸汽灭菌
    		 0.05、0.10、0.22、0.45、1.00、5.00
    有效过滤面积
    0.11㎡/0.22㎡
    进出口方式
    		 滤芯尺寸
    螺纹式：1/4"NPT、3/8"NPT 、1/2"NPT
    插管式：1/4"宝塔接头、3/8"宝塔接头、1/2"宝塔接头
    快装式：0.5"卡盘接头、1"卡盘接头
    		 长度（内芯）: 2.5"、5 "
    应用领域

    制药行业：小流量液体过滤，溶剂样品过滤。

    电子行业：光学镜片单体过滤，锂电池电解液过滤，研磨液过滤，油墨过滤等。





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